Wat is nanotechnologie en

Maat: px

Weergave met pagina beginnen:

Download "Wat is nanotechnologie en"

Cecilia de Coninck
8 jaren geleden
Aantal bezoeken:

2 Wat is nanotechnologie en f thogratie? Stel je voor dat je een siliciumplak (het basismateriaal in de chipindustrie) van 300 millimeter opblaast tot de grootte van Nederland. Dankzij nanotechnologie en lithografie kan je vervolgens l ä:!iiii)rr i *".tr '):;1$ç1, ' ' ir;r,f i, i*;,:i:' Nederland bedelcþçbrl å"ì'14.ì{i å$l.rí;:rir:ìt,cr' qi *, die nauwkeuriger dan een halve straatsteen zijn geplaatst! Nanotechnologie is een hulpmiddel om vormen of mechanismen te maken die kleiner zijn dan '.flü{} *t "cûsv qrå n Lithografie is een afbeeldingstechniek om nanometerstructuren aan te brengen op een bepaalde ondergrond. Nanotechnologie zal in de toekomst een r s;å. : r'e 1! spelen in bijvoorbeeld de biomedische en farmaceutische industrie (intraveneuze diagnostiek), in de halfgeleiderindustrie (computerchips) en bij defensie (nanosatellieten).

rí;:rir:ìt,cr' qi *, die nauwkeuriger dan een halve straatsteen zijn geplaatst! Nanotechnologie is een hulpmiddel om vormen of mechanismen te maken die kleiner zijn dan '.

4 Welke rol speelt TNO TPD op l thog ratiegebied? Wij ontwikkelen kwalitatief hoogstaande optische en mechanische oplossingen om aan de steeds hogere nauwkeurigheidseisen van de gebruikers te kunnen voldoen. Wij werken onder andere aan:. Sensoren waarmee met nanometernauwkeurigheid wafers en maskers op de goede plaats worden gebracht terwijl ze rne{ ro*e snreñfr e:en {,5-2 ls3 bewegen. Dit kan je vergelijken met het zodanig op elkaar afstemmen van twee vliegtuigen dat deze met een snelheid van 900 kilometer per uur achter elkaar blijven vliegen op een constante onderlinge afstand van Ipm,. Ontwikkeling van systemen zodat er schoon kan worden gewerkt. Lenzen en spiegels mogen niet vervuilen omdat er anders minder licht op de wafer valt; op de maskers mogen geen deeltjes zitten omdat dan de afbeelding fouten bevat. De lnternational Technology Roadmap for Semiconductors geeft de richting aan voor toekomstige ontwikkelingen voor de halfgeleiderindustrie. Op dit moment worden er chips gemaakt met structuren van 90 nanometer; in 2013 is het streven dat tot 32 nanometer terug te brengen. Het afbeelden van dergelijke structuren kan je onder andere bereiken door je lichtbron en optiek aan te passen. Je gaat daarbij van 193 nanometer licht (Deep Ultraviolet) naar 13 nanometer licht {Extne e LJåtrævåçået = 1., þ. Waarom die gedrevenheid om te verkleinen? 'Kleinere computerchips kunnen hs e "e sne*ðle r:r: bereiken en dus sneller rekenen. 'Als componenten kleiner worden, kunnen ook de samengestelde apparaten kleiner worden (denk aan de steeds klein*n wordende mobiele telefoons). e e

Sensoren waarmee met nanometernauwkeurigheid wafers en maskers op de goede plaats worden gebracht terwijl ze rne{ ro*e snreñfr e:en {,5-2 ls3 bewegen.

5 It rþ a a r tt F: Þ - t..: \ ì,_ Jl (

$- t..: \$

6 Hoe ziet de toekomst eru t? ln de nieuwe onderzoeksfaciliteit voor nanotechnologie en lithografie werkt TNO TPD vooral aan nano-instrumentatie: instrumenten die nodig zijn om structurer"l onder de "100 " av'**s"r' eter te maken, te zien en te onderzoeken. Het nanotechnologieonderzoek in Nederland wordt door de overheid met 1X8 rniljoen eeirt ondersteund. Het onderzoek is verenigd in anof{ed" De verschillende partners zijn in de figuur rechts aangegeven. Dure instrumenten die nodig zijn, komen vooral in Delft, Twente en roningen (Nanolab) te staan. E c45 o oo - -o c nm ontwikkelingen '193 nm: verdere ontw kkelingen 1 57 nm: verdere ontw kkel ngen 1 57 nm: verdere ontwikkelingen maskerloze lithografie " Huidige activiteiten van TNO TPD oa: nm mmers e-lithograf e technolog emaskerloze lithografie keuze lijnbreedte c c e

maken, te zien en te onderzoeken. Het nanotechnologieonderzoek in Nederland wordt door de overheid met 1X8 rniljoen eeirt ondersteund.

7 roninger / tsia M trlc Ned n TUD / INO TPI) Arnsterd rrn / ljva f] Twenlc: / Mi t--i tt t l WaOenrngen / flío N tttr [ ruijmegen / A/ÍjR,r<iAl Eindhoven / TUe e -t tilips Electrontcs I 32 nnr

8 TNO TPD PLATTEROND NIEUWBOUW TITHORAFIE la St eltjesweg 1 Postbus AD Detft nl/lithography ínfo@tpd.tno.nl Tel OO Fax 0L J. 1-L I lnformatie ove TNO: TNO Wegwijzer Tel Entree/gang 2 Opslag 3 Deep UV Test hamber 4 EUV Lab. 5 Reinig ngsstraat 6 Surface Analys. Lab. 7 leanroom I ang 1 I Kleedsluis 10 ang 2 11 Vac. Lab. Litho I 12 hem. Lab. 13 Nat hem. Lab. 14 Exlraleanroom 15 Particle Anal. Lab. 16 asruimte ( (, (. (- {.' 1," \\ ( (.

1-L I lnformatie ove TNO: TNO Wegwijzer Tel 015-269 69 69 1 Entree/gang 2 Opslag 3 Deep UV Test hamber 4 EUV Lab.

Vergelijkbare documenten

Chemische reinheid van producten. Freek Molkenboer

Chemische reinheid van producten Freek Molkenboer Inhoudsopgave Wat is chemische reinheid, definitie en voorbeelden van werkgebieden waar chemische reinheid essentieel is voor het goed functioneren van